ஆவியாதல் பூச்சு: ஒரு குறிப்பிட்ட பொருளை சூடாக்கி ஆவியாகி திடமான மேற்பரப்பில் வைப்பதன் மூலம், அது ஆவியாதல் பூச்சு என்று அழைக்கப்படுகிறது.இந்த முறை முதன்முதலில் 1857 இல் எம். ஃபாரடேவால் முன்மொழியப்பட்டது, மேலும் இது ஒன்றாக மாறிவிட்டது
நவீன காலத்தில் பொதுவாக பயன்படுத்தப்படும் பூச்சு நுட்பங்கள்.ஆவியாதல் பூச்சு உபகரணங்களின் அமைப்பு படம் 1 இல் காட்டப்பட்டுள்ளது.
உலோகங்கள், சேர்மங்கள் போன்ற ஆவியாக்கப்பட்ட பொருட்கள் ஒரு சிலுவையில் வைக்கப்படுகின்றன அல்லது ஆவியாதல் மூலமாக சூடான கம்பியில் தொங்கவிடப்படுகின்றன, மேலும் உலோகம், பீங்கான், பிளாஸ்டிக் மற்றும் பிற அடி மூலக்கூறுகள் போன்ற பூசப்பட வேண்டிய பணிப்பொருளை முன் வைக்கப்படுகிறது. சிலுவை.கணினி அதிக வெற்றிடத்திற்கு வெளியேற்றப்பட்ட பிறகு, உள்ளடக்கங்களை ஆவியாக்குவதற்கு க்ரூசிபிள் சூடேற்றப்படுகிறது.ஆவியாக்கப்பட்ட பொருளின் அணுக்கள் அல்லது மூலக்கூறுகள் அமுக்கப்பட்ட முறையில் அடி மூலக்கூறின் மேற்பரப்பில் வைக்கப்படுகின்றன.படத்தின் தடிமன் நூற்றுக்கணக்கான ஆங்ஸ்ட்ரோம்களிலிருந்து பல மைக்ரான்கள் வரை இருக்கலாம்.படத்தின் தடிமன் ஆவியாதல் வீதம் மற்றும் ஆவியாதல் மூலத்தின் நேரம் (அல்லது ஏற்றுதல் அளவு) ஆகியவற்றால் தீர்மானிக்கப்படுகிறது, மேலும் இது மூலத்திற்கும் அடி மூலக்கூறுக்கும் இடையிலான தூரத்துடன் தொடர்புடையது.பெரிய பரப்பளவு பூச்சுகளுக்கு, ஒரு சுழலும் அடி மூலக்கூறு அல்லது பல ஆவியாதல் ஆதாரங்கள் பெரும்பாலும் பட தடிமன் சீரான தன்மையை உறுதிப்படுத்த பயன்படுத்தப்படுகின்றன.எஞ்சிய வாயு மூலக்கூறுகளுடன் நீராவி மூலக்கூறுகளின் மோதலை இரசாயன விளைவுகளை ஏற்படுத்துவதைத் தடுக்க, எஞ்சிய வாயுவில் உள்ள நீராவி மூலக்கூறுகளின் சராசரி இலவச பாதையை விட ஆவியாதல் மூலத்திலிருந்து அடி மூலக்கூறுக்கான தூரம் குறைவாக இருக்க வேண்டும்.நீராவி மூலக்கூறுகளின் சராசரி இயக்க ஆற்றல் சுமார் 0.1 முதல் 0.2 எலக்ட்ரான் வோல்ட் ஆகும்.
மூன்று வகையான ஆவியாதல் ஆதாரங்கள் உள்ளன.
①எதிர்ப்பு வெப்பமூட்டும் ஆதாரம்: டங்ஸ்டன் மற்றும் டான்டலம் போன்ற பயனற்ற உலோகங்களைப் பயன்படுத்தி படகுத் தகடு அல்லது இழைகளை உருவாக்கவும், அதற்கு மேல் அல்லது சிலுவையில் ஆவியாகிய பொருளை வெப்பப்படுத்த மின்சாரத்தைப் பயன்படுத்தவும் (படம் 1 [ஆவியாதல் பூச்சு கருவிகளின் திட்ட வரைபடம்] வெற்றிட பூச்சு) எதிர்ப்பு வெப்பமாக்கல் மூலமானது முக்கியமாக Cd, Pb, Ag, Al, Cu, Cr, Au, Ni போன்ற பொருட்களை ஆவியாக்கப் பயன்படுகிறது;
②உயர் அதிர்வெண் தூண்டல் வெப்பமூட்டும் ஆதாரம்: க்ரூசிபிள் மற்றும் ஆவியாதல் பொருளை வெப்பப்படுத்த உயர் அதிர்வெண் தூண்டல் மின்னோட்டத்தைப் பயன்படுத்தவும்;
③எலக்ட்ரான் கற்றை வெப்பமூட்டும் ஆதாரம்: அதிக ஆவியாதல் வெப்பநிலை (2000 [618-1]க்குக் குறையாது) உள்ள பொருட்களுக்குப் பொருந்தும், எலக்ட்ரான் கற்றைகள் மூலம் பொருள் மீது குண்டு வீசுவதன் மூலம் பொருள் ஆவியாகிறது.
மற்ற வெற்றிட பூச்சு முறைகளுடன் ஒப்பிடும்போது, ஆவியாதல் பூச்சு அதிக படிவு விகிதத்தைக் கொண்டுள்ளது, மேலும் இது அடிப்படை மற்றும் வெப்பமாக சிதையாத கலவை படங்களுடன் பூசப்படலாம்.
உயர் தூய்மையான ஒற்றைப் படிகப் படலத்தை டெபாசிட் செய்ய, மூலக்கூறு கற்றை எபிடாக்ஸியைப் பயன்படுத்தலாம்.டோப் செய்யப்பட்ட GaAlAs சிங்கிள் கிரிஸ்டல் லேயரை வளர்ப்பதற்கான மூலக்கூறு பீம் எபிடாக்ஸி சாதனம் படம் 2 இல் காட்டப்பட்டுள்ளது [மூலக்கூறு கற்றை எபிடாக்ஸி சாதன வெற்றிட பூச்சு திட்ட வரைபடம்].ஜெட் உலை ஒரு மூலக்கூறு கற்றை மூலத்துடன் பொருத்தப்பட்டுள்ளது.அதி-உயர் வெற்றிடத்தின் கீழ் ஒரு குறிப்பிட்ட வெப்பநிலைக்கு அது சூடாக்கப்படும் போது, உலையில் உள்ள தனிமங்கள் பீம் போன்ற மூலக்கூறு நீரோட்டத்தில் அடி மூலக்கூறுக்கு வெளியேற்றப்படுகின்றன.அடி மூலக்கூறு ஒரு குறிப்பிட்ட வெப்பநிலைக்கு சூடேற்றப்படுகிறது, அடி மூலக்கூறில் டெபாசிட் செய்யப்பட்ட மூலக்கூறுகள் இடம்பெயரலாம், மேலும் படிகங்கள் அடி மூலக்கூறு படிக லட்டியின் வரிசையில் வளர்க்கப்படுகின்றன.மூலக்கூறு கற்றை எபிடாக்ஸியைப் பயன்படுத்தலாம்
தேவையான ஸ்டோச்சியோமெட்ரிக் விகிதத்துடன் உயர்-தூய்மை கலவை ஒற்றை படிகப் படத்தைப் பெறவும்.படம் மிக மெதுவாக வளரும் வேகத்தை 1 ஒற்றை அடுக்கு/வினாடியில் கட்டுப்படுத்தலாம்.தடுப்பணையைக் கட்டுப்படுத்துவதன் மூலம், தேவையான கலவை மற்றும் அமைப்புடன் கூடிய ஒற்றைப் படிகப் படத்தைத் துல்லியமாக உருவாக்க முடியும்.பல்வேறு ஆப்டிகல் ஒருங்கிணைந்த சாதனங்கள் மற்றும் பல்வேறு சூப்பர்லட்டீஸ் கட்டமைப்பு படங்களை தயாரிக்க மூலக்கூறு கற்றை எபிடாக்ஸி பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படுகிறது.
இடுகை நேரம்: ஜூலை-31-2021